Xác định các thuộc tính Plasma ion hóa yếu trong va trạm electron của phân tử khí tries và khả năng ứng dụng trong công nghệ chế tạo vi mạch
- Nghiên cứu lý thuyết và tài liệu liên quan đến phương pháp dùng plasma tạo ngưng tụ SiO2.
- Nghiên cứu và tổng hợp một số phương pháp thông dụng được áp trong việc tính toán các hệ số chuyển động của electron trong phóng điện của chất khí.
- Với mục đích xem xét khả năng ứng dụng chất khí TRIES cũng như hợp chất của chất khí này với các chất khí khác tương ứng với các phần trăm trộn khí khác nhau trong công nghệ chế tạo vi mạch, luận án thực hiện:
Xin lỗi bạn không thể down load tài liệu này. Bạn có thể xem tài liệu trực tuyến trên website hoặc liên hệ thư viện trường để được hướng dẫn. Cảm ơn bạn đã sử dụng dịch vụ của chúng tôi.
Bạn vui lòng tham khảo thỏa thuận sử dụng của thư viện số.